本产品是面向极紫外光刻技术研发的核心科研设备，采用双镜组投影光学架构设计，适配极紫外波段光学传输特性，可实现高精度的图案投影与曝光成像。
本产品搭载高稳定性真空光路腔体，有效降低极紫外光在大气中的衰减损耗，搭配精密位移与对准系统，能精准控制投影倍率与曝光精度，适用于微纳加工、半导体光刻工艺研发、极紫外光学元件以及掩模版与光刻胶性能验证等前沿科研领域，为极紫外光刻技术的基础研究与工艺优化提供可靠的实验平台。